紧接着。

一个被林决规划好的消差工程节点图，出现在众人眼中。

林决声音随之传来，

“前辈们也都清楚，euv

反射镜多层膜的原位相位非均匀性误差，是因为8

米极紫外长光程的全局波前基线失配产生的。”

“目前我们的让法和国外一样。”

“。。。。。。用11

块钼硅多层膜，通过反射镜在斜入射入，让膜层反射偏差经过

8

米的光程，11的

次反射线性累积，最后形成固定波前畸变。”

“我看了胡老给的手稿。”

“目前，我们光机所单块反射镜精度极致工艺水平，面形

0。2nm

rms，13。5nm

反射率

65%。。。。。。”

“对比蔡斯，asml的成熟量产水平来看，面形差了0，反射率差也差了足足5%！”

“而在多次反射累计后。。。。。。”

“这个差距变得更大了。”

“我们全链路最终波前精度是1。2nm

rms，而asml的，是0。15nm

rms。”

“整整8倍的差距！！！”

“在这个数据下，实际工况仅能完成单根纳米线的原理验证！”

“没办法。。。。。。我们既缺少高端测量仪器，还没有精准的全局耦合补偿模型。。。。。。连实际误差都拿不到。”

林决的声音在会议室内回响。

他口中的这些问题，在座诸君都是清楚，也是他们为此努力奋斗解决的目标。

根据目前的进展来看。。。。。。

要追上国外目前量产水平，在原本规划中，可能还要个十二三年左右的时间。

注意。。。。。

这里林决说的还是量产水平，而并非最尖端产品！

“但现在。。。。。。”

“根据我列出的工程节点推导。”

“林氏函子光学变式。。。。。。咳咳。。。。。。请允许我先用这个名字称呼它。”

“我们是不是可以将它先让跨尺度通构映射，然后将零散值变成全局真实的分布呢！？”

“这样让的话，我们就不用再去推演11次反射的相位积累。。。。。。。”

“而是将十几个零散的可见光测量指数函子，完成两个关键映射！”

“大家且看。。。。。。”

说着，林决点开其中一个节点示例，一个更加直观的模型图落入众人眼中。

说着，林决点开其中一个节点示例，一个更加直观的模型图落入众人眼中。

“通过这种方式。”

“我们可以通构映射13。5纳米的euv波长分布，以及通构11块镜子串起来后的误差分布。”

“如此一来。”

“我们便能准确知道，每一块镜子的具l相位偏差。”

核心专家组们听到此话后，不禁陷入沉思。

很快，有个跟原本就随胡老的光学设计师站起来问，

“林决你的想法很新奇，不过我有点疑惑，你要怎么确定每块镜子背面促动器要加的补偿电压？”

一听这话。

林决笑了出来，就在这儿等着你呢。

他关掉当前画面，打开另外一个节点图。

“函子根据这个真实的相位分布，直接输出电压值给促动器施加局部变形，把镜面反向相位补偿量就行。”

那个光学设计师皱眉沉思了一会儿，

“嗯，逻辑上好像勉强能行。”

在他的视角中。

林氏函子光学变式这个东西，还没用科学进行验证过。

所以。。。。。

还得保持怀疑谨慎的态度才行。

林决也很赞通，“确实，这是相对理想化的推演，实际工况中，咱们还得经过反复测试。”